簡(jiǎn)要描述:電子級(jí)三甲基氯硅烷工藝裝置主要由溶解釜、加料釜、反應(yīng)釜、接收罐、堿液釜和渣漿釜等組成。 其主要儀表及管閥件均采用高性能產(chǎn)品,裝置非標(biāo)采用耐腐蝕材質(zhì)。PLC 系統(tǒng)采集確保操作人員安全。 裝置的整體水平要求自動(dòng)化程度高,數(shù)據(jù)精確度及重復(fù)性好,安全可靠 并能長(zhǎng)周期穩(wěn)定運(yùn)行
電子級(jí)三甲基氯硅烷工藝裝置
流程簡(jiǎn)述
溶劑將固相溶解后與計(jì)量好的原料一通入反應(yīng)釜反應(yīng),反應(yīng)生成的輕組分經(jīng)冷卻和二次冷凝收集于接收罐,含渣重相用氣體壓液的方式通入渣漿釜進(jìn)行反應(yīng),渣漿釜在反應(yīng)前加入要求量的堿液。整個(gè)反應(yīng)液相流經(jīng)采用Φ3/4"管路,氣相采用Φ1/2"管路,具體詳見(jiàn) PID圖。反應(yīng)“忌氧",反應(yīng)前系統(tǒng)先抽真空,然后 N2 置換。
工藝流程基本設(shè)計(jì)
1、反應(yīng)釜均采用夾套保溫,反應(yīng)釜攪拌槳槳葉可手動(dòng)拆卸更換。
2、其余部分設(shè)計(jì)
1) 所有罐的安裝位置離地面有一定的高度,方便操作人員加料放料或排空;
2) 不同物料閥門(mén)及管道配備不同顏色的標(biāo)簽,一目了然,方便區(qū)分和操作;
3) 設(shè)備布局合理規(guī)范整齊,符合工藝流程走向的同時(shí),方便操作和維護(hù);
4) 所有管道安裝整齊,位置合理,最大限度的減少積液殘留;
5) 設(shè)置低點(diǎn)放空,保證反應(yīng)結(jié)束后裝置內(nèi)無(wú)物料殘留;
6) 所有需要操作的設(shè)備和儀器都設(shè)計(jì)在操作人員方便的高度和范圍以內(nèi);所有壓力表都在操作人員可視的高度和范圍以內(nèi);
7) 所有工藝部分的器件固定均采用可拆卸的,不采用焊接在框架上的方式,方便裝置的未來(lái)升級(jí)擴(kuò)充;
8) 裝置的精密部件配置相應(yīng)的保護(hù)措施,如反應(yīng)器配備指針壓力表及壓力傳感器,氣體質(zhì)量流量計(jì)前配備過(guò)濾器等保護(hù)措施;
9) 裝置采用鋁型材,結(jié)構(gòu)穩(wěn)固,組合簡(jiǎn)單,便于方便移動(dòng);
10)裝置整體工藝部分按照用戶空間尺寸設(shè)計(jì),置于中試車(chē)間,控制系統(tǒng)置于旁邊,便于操作。
電子級(jí)三甲基氯硅烷工藝裝置